Изменение локальной температуры материала при электронно-пучковой обработке и ее влияние на свойства модифицированного слоя | Изв. вузов. Физика. 2019. № 7. DOI: 10.17223/00213411/62/7/39

Изменение локальной температуры материала при электронно-пучковой обработке и ее влияние на свойства модифицированного слоя

Проведены измерения локальной температуры на поверхности системы керамическое покрытие - алюминиевая подложка при ее обработке импульсным электронным пучковом субмиллисекундной длительности. Варьируемыми параметрами выступали плотность энергии пучка, длительность импульса, толщина TiCuN-покрытия. Выявлены температурные зависимости, максимальные значения температуры, достигаемые во время импульса, скорости нагрева и охлаждения поверхности. Установлены оптимальные режимы для электронно-пучковой обработки системы TiCuN-покрытие - А7-подложка.

Change of local temperature of material at electron-beam treatment and its influence on structure and properties of the .pdf Введение Область применения алюминия ограничена из-за его невысокой твердости и износостойкости. Однако он имеет низкую стоимость, легко поддается формовке, литью и механической обработке. Для увеличения физико-механических и эксплуатационных характеристик алюминия можно использовать методы поверхностной модификации, такие, как активированная дуговая металлизация [1], электровзрывное легирование [2], плазменно-электролитическая обработка и электролитическое оксидирование [3], нанесение ионно-плазменных покрытий [4], комбинированная электронно-ионно-плазменная обработка [5]. Нанесение покрытий TiCuN [6] является перспективным для подложек из сталей и твердых сплавов, так как они обладают свехтвердостью (≥ 40 ГПа), высокой износостойкостью (< 3000 мкм3Н-1м-1), низким коэффициентом трения (0.2), повышенной степенью упругого восстановления, высокой адгезионной прочностью к металлической и твердосплавной подложке (> 30 Н), хорошей термической стабильностью (до 1100 °С) и увеличенной стойкостью к окислению (до 800 °С) [6-8]. Благодаря формированию нанокристаллической структуры, где рост кристаллитов TiN ограничивается аморфной прослойкой меди, покрытие обладает набором перечисленных полезных характеристик. Однако для алюминиевых подложек процесс формирования твердых нитридных покрытий мало изучен и требует дополнительных исследований, в том числе и как этап комбинированной электронно-ионно-плазменной обработки. В настоящее время комбинированные методы модификации поверхности материалов расширяют свой круг применений за счет уникальной возможности получения широкого спектра свойств, состава и структуры поверхностного слоя материала [9-11]. Одним из перспективных комбинированных методов, вызывающих интерес у научных исследователей, является нанесение покрытия с последующей электронно-пучковой обработкой системы покрытие - подложка [11-13]. Стоит отметить, что таким методом в зависимости от вкладываемой плотности энергии, состава наносимого покрытия и используемой подложки можно получать либо поверхностные сплавы разного состава толщиной ~ 0.1-100 мкм [12-14], либо вплавлять однослойные твердые покрытия в более легкоплавкие подложки для получения высокоадгезионных слоев с повышенными свойствами [15, 16], либо формировать относительно толстые покрытия (≥ 6 мкм) со стабильной структурой в многоцикловых режимах напыление - облучение. Для всех процессов электронно-пучковой модификации системы «покрытие/подложка» основным критерием при формировании структуры модифицируемого слоя является температура материала в зоне воздействия электронного пучка и скорость ее изменения, скорость нагрева и охлаждения материала. На температурные характеристики влияет, прежде всего, энергия электронов пучка, приходящая на подложку (плотность энергии в импульсе), свойства материала, как покрытия, так и подложки (теплопроводность, температура плавления и др.), толщина облучаемого покрытия, скорость охлаждения образцов. Целью данной работы было измерение локальной температуры поверхности системы TiCuN-покрытие - A7-подложка, облучаемой импульсным электронным пучком субмиллисекундной длительности; определение температурных зависимостей для разной толщины покрытия, разной плотности энергии пучка в импульсе, разной длительности импульса; выявление оптимальных режимов электронно-пучковой обработки системы TiCuN-покрытие - A7-подложка. Методика проведения экспериментов Экспериментальные работы по осаждению TiCuN-покрытий и их последующей электронно-пучковой обработке в едином вакуумном цикле проводились на автоматизированной установке «КОМПЛЕКС» [17], разработанной и изготовленной в Институте сильноточной электроники СО РАН (г. Томск) и предназначенной для электронно-ионно-плазменного инжиниринга поверхности материалов и изделий. В качестве подложек выступали образцы из технически чистого алюминия марки А7 (Al - 99.7 %; Fe - до 0.16 %; Si - до 0.16 %; Ti - до 0.02 %; Cu - до 0.01 %; Zn - до 0.01 %). Образцы были электро-химически отполированы до среднеарифметического отклонения профиля Rа = = 0.1-0.2 мкм и имели исходную микротвердость HV0.5 = 0.3 ГПа. Покрытия TiCuN осаждались вакуумно-дуговым плазменно-ассистированным методом при испарении спеченного катода состава Ti - 12 % Cu [6]. Нанесение покрытий велось в среде азота при токе разряда Id = 40 А в режиме с плазменным ассистированием, при котором плотность ионного тока газовой плазмы составляла 30 % от общей плотности ионного тока газо-металлической плазмы на подложку. Скорость роста TiCuN-покрытий была равна 11 мкм/ч. Для стравливания оксидного слоя с поверхности с целью увеличения адгезии покрытия к подложке проводилась ее предварительная бомбардировка ионами титана при низком давлении (< 0.1 Па) и высоком отрицательном напряжении смещения (~ 1 кВ). Электронно-ионно-плазменная обработка алюминиевых подложек проводилась по схеме: напыление покрытия TiCuN толщиной 1 мкм и электронно-пучковая обработка (ЭПО) системы покрытие - подложка; эти операции выполнялись в шесть циклов до формирования относительно толстого покрытия (≥ 6 мкм) в едином вакуумном цикле. ЭПО велась при следующих параметрах: ускоряющее напряжение Ua = 10 кВ, плотность энергии в импульсе ES = 5 и 10 Дж/см2, частота следования импульсов f = 0.3 с-1, длительность импульса τ = 100-400 мкс, количество импульсов N = 3. Такие диапазоны значений параметров режима ЭПО выбраны с целью релаксации внутренних напряжений, накапливаемых в относительно толстых нитридных покрытиях при их формировании; для вплавления твердого покрытия в легкоплавкую подложку, но без существенного изменения основных свойств покрытия, его фазового состава и структуры после ЭПО. Эксперименты по температурным измерениям проводились на вакуумной электронно-пучковой установке «СОЛО» [18, 19], разработанной и изготовленной в Институте сильноточной электроники СО РАН и используемой для модификации поверхности различных материалов и изделий [20]. В её основе лежит электронный источник с плазменным катодом на основе импульсного дугового разряда низкого давления [21], способный генерировать электронный пучок с длительностью импульса 20-200 мкс, током 20-300 А, энергией электронов 5-25 кэВ, плотностью энергии в импульсе до 100 Дж/см2, частотой следования импульсов 0.3-20 с-1. Диапазон рабочих давлений электронного источника, который поддерживается путём постоянного напуска рабочего газа (аргон) через источник электронов, составляет 0.01-0.05 Па. Воздействие импульсного электронного пучка на поверхность металлического материала позволяет достигать скоростей нагрева поверхностного слоя - 108 К/с, охлаждения - 106-107 К/с, что ведет к выглаживанию поверхности, импульсной закалке из расплавленного состояния и, как следствие, к существенному улучшению физико-химических и эксплуатационных свойств материалов и изделий в целом. Локальная температура на поверхности алюминиевых образцов с нанесенным покрытием измерялась с помощью высокоскоростного инфракрасного пирометра «Kleiber KGA 740-LO», соединённого гибким волноводом с объективом «LVO 25» с возможностью регулировки размера области регистрации инфракрасного излучения и расстояния до поверхности образцов. На рис. 1 показана схема измерения температуры: 1 - электронный источник; 2-3 - катушки транспортирующего магнитного поля; 4 - стол манипулятора; 5 - облучаемый образец; 6 - хромель-алюме¬левая термопара; 7 - мультиметр «Fluke 175»; 8 - объектив «LVO 25»; 9 - кварцевое стекло марки КВ; 10 - высокоскоростной инфракрасный пирометр «Kleiber KGA 740-LO»; 11 - блоки питания и управления параметрами электронного источника; 12 - осциллограф «Tektronix TDS 1001B». Рабочий диапазон измеряемых пирометром температур составляет 300-2300 °C; спектральный диапазон 2-2.2 мкм; время отклика 6 мкс; температурное разрешение 1 °С. Для уменьшения тепловых потерь в процессе измерения образцы фиксировались на поверхности стола манипулятора в подвешенном состоянии с помощью тонких полосок фольги из нержавеющей стали. Рис. 1. Схема измерения температуры поверхности образца в процессе импульсного электронно-пучкового воздействия Объектив пирометра с помощью специально изготовленного манипулятора фиксировался внутри вакуумной камеры, но при этом находился при атмосферном давлении. Для возможности регистрации температуры внутри вакуумной камеры использовалось кварцевое стекло толщиной 1.5 см, прозрачное для заданного спектрального диапазона. Пирометр имеет аналоговый выход 0-10 В, сигнал с которого регистрировался с помощью осциллографа. Для калибровки показаний пирометра использовалась хромель-алюмелевая термопара, спай которой фиксировался с помощью точечной сварки на обратной стороне образца, чтобы не допустить прямого попадания электронного пучка на термопару. Показания напряжения с термопары снимались с помощью мультиметра. Точность наведения объектива на участок поверхности и размер области измерения температуры контролировались визуально с помощью обратного светового луча, исходящего из объектива (рис. 1). Так как объектив располагался под углом  30 ° к поверхности образца, то излучаемая поверхность представляла собой эллипс с размерами  4×8 мм. У пирометра есть возможность задавать коэффициент излучения ε путём установки на потенциометре требуемого значения в диапазоне 0.1-1. Калибровка показаний пирометра и определение ε поверхности материала осуществлялась следующим образом: с помощью импульсного электронного пучка в частотно-импульсном режиме (частота импульсов 8 с- 1, плотность энергии в импульсе 0.5 Дж/см2, длительность импульса 50 мкс, энергия электронов 10 кэВ) теплоизолированный образец с закреплённой термопарой равномерно разогревался до температуры 500 °C. Путём изменения значения потенциометра на пирометре устанавливалось соответствие температуры 500 °C по термопаре - 1 В на осциллографе. Конечное положение потенциометра указывало на значение ε для данного материала и состояния его поверхности на момент измерения. По мере объёмного остывания образца после частотно-импульсного электронно-пучкового нагрева регистрировалось ещё несколько пар значений температура (термопара) - напряжение (осциллограф) и строилась калибровочная прямая, по которой в дальнейшем определялась температура поверхности при облучении в заданных режимах. Калибровка осуществлялась для каждого образца перед измерениями и дополнительно после измерений для выявления отклонения ε от первоначального значения. Измерения локальной температуры алюминиевого образца (А7) с нанесенным TiCuN-покрытием проводилось при следующих параметрах ЭПО: ускоряющее напряжение Ua = 15 кВ, плотность энергии в импульсе ES = = 5 и 10 Дж/см2, длительность импульса τ = 100 и 200 мкс. Состояние системы покрытие - подложка до и после циклической ЭПО исследовалось на следующем оборудовании: растровый электронный микроскоп Philips SEM-515 с микроанализатором EDAX ECON IV; рентгеновский дифрактометр Shimadzu XRD 6000; микровизор металлографический μVizo-MET-221; микротвердомер ПМТ-3; трибометр Pin on Disc and Oscillating TRIBOtester (TRIBOtechnic); оптический профилометр МНП-1; прибор для измерения толщины пленок и покрытий Calotest CAT-S-0000. Результаты и их обсуждение Измерения локальной температуры и параметров электронного пучка показали, что зависимости температуры от времени на поверхности образца аналогичны осциллограммам импульсов тока электронного пучка, имеющим прямоугольную форму с фронтами 30-40 мкс и длительностью 100-200 мкс по амплитуде. Характерная осциллограмма импульса электронного пучка и зависимость температуры поверхности алюминиевого образца с TiCuN-покрытием толщиной 1 мкм от времени при параметрах ЭПО: ES = 10 Дж/см2, τ = 200 мкс, приведены на рис. 2. При скорости роста амплитуды тока электронного пучка на переднем фронте ≈ 4•106 А/с скорость роста измеряемой температуры составляет ≈ 2•107 К/с. При электронно-пучковой обработке образцов с нанесенным покрытием важную роль играет толщина самого покрытия, так как теплоотвод от системы покрытие - подложка будет зависеть не только от габаритов и теплофизических параметров подложки, но и характеристик покрытия. При ЭПО технически чистого алюминия (А7) без покрытия (см. рис. 6 в [22]) зависимость температуры поверхности от времени имеет растущий характер до значения ≈ 700 °С (максимум) и спадает после прекращения импульса, что наблюдается для параметров ЭПО: ES = 8 Дж/см2, τ = 100 мкс. Скорость роста температуры в области измерения равна ≈ 5•107 К/с, скорость охлаждения - ≈ 2•106 К/с. Для TiCuN-покрытия толщиной 1 мкм (рис. 3) скорость нагрева образца, оцененная по переднему фронту температурной зависимости, изменяется в пределах (0.9-3.0)•107 К/с и зависит от интенсивности нагрева, т.е. плотности мощности пучка. Скорость охлаждения, рассчитанная по зад- Рис. 2. Осциллограмма тока электронного пучка и зависимость температуры поверхности алюминиевого образца с TiCuN-покрытием толщиной 1 мкм от времени при параметрах ЭПО: ES = 10 Дж/см2, τ = 200 мкс Рис. 3. Экспериментально полученные зависимости температуры поверхности алюминиевого образца с TiCuN-покрытием толщиной 1 мкм от времени при разных параметрах ЭПО: кр. 1 - ES = 5 Дж/см2, τ = 100 мкс; кр. 2 - ES = 10 Дж/см2, τ = 100 мкс; кр. 3 - ES = = 5 Дж/см2, τ = 200 мкс; кр. 4 - ES = 10 Дж/см2, τ = 200 мкс нему фронту, находится в диапазоне (1.1-2.0)•106 К/с. В течение импульса также наблюдается рост локальной температуры: при ES = 5 Дж/см2 примерно на 50-90 °С, при ES = 10 Дж/см2 примерно на 100-115 °С. При увеличении длительности импульса со 100 до 200 мкс скорость роста температуры в течение импульса уменьшается на порядок с 2•106 до 5•105 К/с. Очевидно, что при увеличении длительности импульса с сохранением плотности энергии максимальная фиксируемая температура уменьшается, при увеличении плотности энергии с той же длительностью импульса - увеличивается (рис. 3). Максимальная температура (789 °С), зафиксированная в экспериментах для толщины TiCuN-покрытия 1 мкм, достигается при ES = 10 Дж/см2 и τ = 100 мкс. Стоит отметить, что только в этом режиме была достигнута температура плавления алюминиевой подложки (Tm = 660 °С) для данной толщины покрытия. В течение импульса для всех режимов температура исследуемой поверхности была не ниже 450 °С. При увеличении толщины TiCuN-покрытия в системе покрытие - подложка до 3 мкм (рис. 4, а) скорость роста температуры на переднем фронте, скорость охлаждения исследуемой поверхности и скорость роста температуры во время импульса остаются в тех же диапазонах, что и для толщины 1 мкм. Для всех параметров пучка электронов при толщине покрытия 3 мкм наблюдается достижение температуры плавления алюминия, максимальная температура в зависимости от параметров облучения находится в диапазоне 682-944 °С, температура во время импульса не опускается ниже 600 °С. Максимальная температура (944 °С), как и в первом случае, наблюдается для параметров пучка ES = 10 Дж/см2 и τ = 100 мкс. Рис. 4. Экспериментально полученные зависимости температуры поверхности алюминиевого образца с TiCuN-покрытием толщиной 3 (а) и 6 мкм (б) от времени при разных параметрах ЭПО: кр. 1 - ES = = 5 Дж/см2, τ = 100 мкс; кр. 2 - ES = 10 Дж/см2, τ = 100 мкс; кр. 3 - ES = 5 Дж/см2, τ = 200 мкс; кр. 4 - ES = 10 Дж/см2, τ = 200 мкс При дальнейшем увеличении толщины TiCuN-покрытия (до 6 мкм) характер экспериментально измеренных температурных зависимостей сохраняется (рис. 4, б). Однако скорость роста температуры во время импульса для τ = 100 мкс увеличивается в 1.5-2 раза из-за увеличения толщины покрытия, которое обладает теплопроводностью примерно в 10 раз ниже [23, 24], чем имеет алюминиевая подложка (220 Вт•м-1•К-1). При всех значениях длительности импульса и плотности энергии исследуемая поверхность достигает температуры плавления алюминия, максимальные значения температур для разных параметров пучка находятся в диапазоне 683-990 °С. Максимальная температура для толщины покрытия 6 мкм (990 °С) наблюдается, как и в первых двух случаях, для параметров пучка ES = 10 Дж/см2 и τ = 100 мкс. Результаты измерений механических и трибологических характеристик (таблица) показали, что твердость поверхностного слоя системы TiCuN-покрытие - А7-подложка (толщина TiCuN-покрытия 6 мкм), сформированного путем многоцикловой электронно-ионно-плазменной обработки, увеличивается примерно в 10 раз по сравнению с твердостью исходного алюминия А7. Параметр износа уменьшился для обработанных образцов в 6.5-25.5 по сравнению с исходными значениями. Это указывает на увеличение износостойкости системы TiCuN-покрытие - А7-подложка. Лучшими свойствами обладает система TiCuN-покрытие - А7-подложка, облученная при ES = 5 Дж/см2, τ = 200 мкс (№ 3), когда термическое воздействие электронного пучка было минимальным и температура на поверхности не превышала 680 °С на каждом из 6 циклов обработки (рис. 3 и 4). Участки рентгенограмм для этого образца и образца с TiCuN-покрытием без ЭПО приведены на рис. 5. Видно, что ЭПО не приводит к существенным изменениям фазового состава и структуры. Методами рентгеноструктурного анализа было установлено, что система TiCuN-покрытие - А7-подложка без и после ЭПО является многофазной и содержит следующие фазы: δ-TiN (основная фаза TiCuN-покрытия), α-Ti (фаза, соответствующая капельной фракции) и Al (элемент подложки). Свойства TiCuN-покрытий, синтезированных на образцах из алюминия А7 комбинированным электронно-ионно-плазменным методом № п/п Образец Микротвердость HV0.5, ГПа Коэффициент трения μ Параметр износа V 104 мм3Н-1м-1 1 Исходный А7 0.3 0.5 130 2 TiCuN c ЭПО (5 Дж/см2, 100 мкс) 2.1 0.8 11.8 3 TiCuN c ЭПО (5 Дж/см2, 200 мкс) 2.0 0.4 5.1 4 TiCuN c ЭПО (10 Дж/см2, 100 мкс) 3.8 0.8 20.1 5 TiCuN c ЭПО (10 Дж/см2, 200 мкс) 2.4 0.7 11.7 Рис. 5. Характерные участки рентгенограмм для покрытий TiCuN толщиной 6 мкм без (кр. 1) и с ЭПО (кр. 2), полученных на алюминиевой подложке. Параметры ЭПО: ES = 5 Дж/см2, τ = 200 мкс Стоит отметить, что TiCuN-покрытия, обработанные при плотности энергии пучка ES = 10 Дж/см2, поменяли характерный золотистый цвет на серебристый, причем для длительности импульса τ = 100 мкс (№ 4) это проявляется более явно. Это говорит о разрушении TiCuN-покры¬тия и объясняет низкие значения свойств по сравнению с покрытиями, обработанными при ES = 5 Дж/см2 (таблица). Разрушение TiCuN-покрытия может происходить при термическом нагреве ≥ 850 °С [7]. Максимально достигаемая температура на поверхности образца № 5 на 1-м, 3-м и 6-м цикле электронно-пучковой обработки составляет 654, 840 и 848 °С соответственно; для № 4 - 789, 944 и 990 °С. Таким образом, в ходе оптимизации режимов электронно-ионно-плазменной обработки системы «покрытие/подложка» необходимо, прежде всего, учитывать толщину и теплофизические свойства покрытия. В выбранном диапазоне параметров и толщин покрытий TiCuN целесообразно проводить ЭПО для ES = 5 Дж/см2, τ = 200 мкс при толщинах покрытия до 6 мкм; для ES = 5 Дж/см2, τ = 100 мкс - 1 мкм; при ES = 10 Дж/см2, τ = 200 мкс - 1 мкм; при ES = 10 Дж/см2, τ = 100 мкс ЭПО покрытия с толщиной от 1 мкм может привести к его разрушению и потерям необходимых свойств. Заключение Проведены экспериментальные работы по измерению локальной температуры на поверхности системы TiCuN-покрытие - A7-подложка при воздействии импульсного электронного пучка субмиллисекундной длительности с помощью высокоскоростного инфракрасного пирометра. Экспериментально выявлены зависимости температуры поверхности для разных толщин керамического покрытия TiCuN, разных плотностей энергии пучка в импульсе и разных длительностей импульса. Показано, что при увеличении толщины TiCuN-покрытия наблюдается повышение локальной температуры поверхности из-за снижения теплопроводности системы покрытие - подложка. Максимальная температура зафиксирована для толщины покрытия 6 мкм для параметров ЭПО: ES = 10 Дж/см2 и τ = 100 мкс, и равна 990 °С. Скорость нагрева исследуемых образцов, оцененная по переднему фронту температурной зависимости, составляет (0.9-3.0)•107 К/с в зависимости от интенсивности нагрева (плотности мощности) и толщины покрытия; скорость охлаждения, рассчитанная по заднему фронту, находится в диапазоне (1.1-2.8)•106 К/с; скорость роста температуры во время импульса составляет (1.0- 50)•106 К/с. В течение импульса для всех режимов температура поверхности была не ниже 450 °С для толщины покрытия 1 мкм; 600 °С - для 3 мкм; 610 °С - для 6 мкм. Максимальная температура, достигаемая в диапазоне выбранных параметров при толщине покрытия 1 мкм - 790 °С; 3 мкм - 944 °С; 6 мкм - 990 °С. Показано, что для каждой толщины покрытия необходимо использовать режим ЭПО, когда локальная температура поверхности не превышает ≈ 800 °С, при которой начинается разрушение нитридного покрытия. Целесообразно проводить ЭПО для параметров ES = 5 Дж/см2, τ = 200 мкс при толщинах покрытия до 6 мкм; для ES = 5 Дж/см2, τ = 100 мкс - 1 мкм; при ES = 10 Дж/см2, τ = = 200 мкс - 1 мкм; при ES = 10 Дж/см2, τ = 100 мкс ЭПО покрытия с толщиной от 1 мкм может привести к его разрушению и потерям необходимых свойств. При многоцикловой электронно-ионно-плазменной обработке системы TiCuN-покрытие - A7-подложка лучшие трибологические свойства наблюдаются для параметров ЭПО ES = 5 Дж/см2, τ = 200 мкс: коэффициент трения 0.4; параметр износа 5.1•10-4 мм3Н-1м-1. Таким образом, проведенные исследования свидетельствуют о перспективности использования комбинированной обработки поверхности алюминия, включающей вакуумно-дуговое напыление твердого TiCuN-покрытия толщиной от одного до нескольких микрометров и последующую электронно-пучковую обработку поверхности импульсным электронным пучком, для кратного увеличения износостойкости поверхностного слоя изделия, и как следствие, увеличение его срока службы с использованием разработанных и оптимизированных режимов обработки поверхности. Рентгеноструктурные исследования выполнены в ЦКП НОЦ ТГУ «Физика и химия высокоэнергетических систем».

Ключевые слова

properties, temperature measurement, “coating/substrate” system, aluminum substrate, vacuum arc deposition, TiCuN coating, electron-beam treatment, свойства, pulsed electron beam, измерение температуры, система покрытие - подложка, алюминиевая подложка, TiCuN-покрытие, вакуумно-дуговое осаждение, электронно-пучковая обработка, импульсный электронный пучок

Авторы

ФИООрганизацияДополнительноE-mail
Лопатин Илья ВикторовичИнститут сильноточной электроники СО РАНк.т.н., науч. сотр.lopatin@opee.hcei.tsc.ru
Иванов Юрий ФедоровичИнститут сильноточной электроники СО РАНд.ф.-м.н., гл. науч. сотр.yufi55@mail.ru
Ахмадеев Юрий ХаляфовичИнститут сильноточной электроники СО РАНк.т.н., зав. лабораториейahmadeev@opee.hcei.tsc.ru
Коваль Николай НиколаевичИнститут сильноточной электроники СО РАНд.т.н., гл. науч. сотр.koval@opee.hcei.tsc.ru
Москвин Павел ВладимировичИнститут сильноточной электроники СО РАНмл. науч. сотр.pavelmoskvin@mail.ru
Тересов Антон ДмитриевичИнститут сильноточной электроники СО РАНнауч. сотр.tad514@yandex.ru
Крысина Ольга ВасильевнаИнститут сильноточной электроники СО РАНк.т.н., науч. сотр.krysina_82@mail.ru
Всего: 7

Ссылки

Akbar F., Mativenga P.T., and Sheikh M.A. // Proc. IMechE. Part B: J. Eng. Manufactur. - 2009. - V. 223. - No. 4. - P. 363-375.
Samani M.K., Ding X.Z., Khosravian N., et al. // Thin Solid Films. - 2015. - V. 578. - P. 133- 138.
Teresov A.D., Koval T.V., Moskvin P.V., et al. // IEEE 2018, Proc. 20th Int. Symp. on High-Current Electronics (ISHCE). - 2018. - P. 10-14.
Коваль Н.Н., Иванов Ю.Ф. // Изв. вузов. Физика. - 2008. - Т. 51. - № 5. - С. 60-70.
Koval N.N., Grigoryev S.V., Devyatkov V.N., et al. // IEEE Trans. Plasma Sci. - 2009. - V. 37. - No. 10. - Р. 1890-1896.
Grigoriev S.V., Koval N.N., Devjatkov V.N., and Teresov A.D. // Proc. 9th Int. Conf. Modification of Materials with Particle Beams and Plasma Flows. - Russia, Tomsk, 2008. - P. 19-22.
Девятков В.Н., Коваль Н.Н., Григорьев С.В. и др. // Ученые записки Петрозаводского государственного университета. - 2010. - № 2(107). - С. 86-95.
Devyatkov V.N., Ivanov Yu.F., Krysina O.V., et al. // Vacuum. - 2017. - V. 143. - P. 464- 472.
Иванов Ю.Ф., Петрикова Е.А., Иванова О.В. и др. // Изв. вузов. Физика. - 2015. - Т. 58. - № 3. - С. 82-88.
Иванов Ю.Ф., Петрикова Е.А., Иванова О.В. и др. // Изв. вузов. Физика. - 2015. - Т. 58. - № 3. - С. 75-81.
Марков А.Б., Миков А.В., Озур Г.Е., Падей А.Г. // Приборы и техника эксперимента. - 2011. - № 6. - С. 122-126.
Ротштейн В.П., Иванов Ю.Ф., Колубаева Ю.А. и др. // Письма в ЖТФ. - 2011. - Т. 37. - Вып. 5. - С. 72-80.
Марков А.Б., Яковлев Е.В., Шепель Д.А. и др. // Изв. вузов. Физика. - 2017. - Т. 60. - № 8. - С. 175-180.
Rotshtein V.P., Kolubaeva Yu.A., Mei X., et al. // Tech. Phys. Lett. - 2012. - V. 38. - No. 9. - P. 780-783.
Иванов Ю.Ф., Тересов А.Д., Петрикова Е.А. и др. // Изв. вузoв. Физика. - 2017. - Т. 60. - № 3. - С. 122-128.
Ivanov Yu.F., Krysina O.V., Petrikova E.A., et al. // High Temperature Mater. Processes. - 2017. - V. 21(1). - P. 53-64.
Koval N.N., Ivanov Yu.F., Lopatin I.V., et al. // Russ. J. General Chem. - 2015. - V. 85. - No. 5. - P. 1326-1338.
Krysina O.V., Koval N.N., Shmakov A.N., and Vinokurov Z.S. // J. Phys.: Conf. Series. - 2016. - V. 669. - P. 012034.
Ivanov Yu.F., Koval N.N., Krysina O.V., et al. // Surf. Coat. Technol. - 2012. - V. 207. - P. 430-434.
Krysina O., Petrikova E., Shugurov V., et al. // MATEC Web of Conf. - 2018. - V. 143. - P. 03007 (7 p.).
Зибров М.С., Ходаченко Г.В., Тумаркин А.В. и др. // Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования. - 2013. - № 12. - С. 45-51.
Ракоч А., Гладкова А., Дуб А. Плазменно-электролитическая обработка алюминиевых и титановых сплавов. - М.: МИСиС, 2017. - 160 с.
Романов Д.А., Олесюк О.В., Будовских Е.А. и др. // Порошковая металлургия и функциональные покрытия. - 2014. - № 3. - С. 60-65.
Коробов Ю.С., Прядко А.С., Яковлева И.Л. // Материалы I Междунар. интерактивной науч.-практич. конф. «Инновации в материаловедении и металлургии». - 2012. http://hdl.handle.net/10995/27858.
 Изменение локальной температуры материала при электронно-пучковой обработке и ее влияние на свойства модифицированного слоя | Изв. вузов. Физика. 2019. № 7. DOI: 10.17223/00213411/62/7/39

Изменение локальной температуры материала при электронно-пучковой обработке и ее влияние на свойства модифицированного слоя | Изв. вузов. Физика. 2019. № 7. DOI: 10.17223/00213411/62/7/39