Генерация плазмы с повышенной степенью ионизации в импульсном сильноточном тлеющем разряде низкого давления с полым катодом | Изв. вузов. Физика. 2020. № 10. DOI: 10.17223/00213411/63/10/109

Генерация плазмы с повышенной степенью ионизации в импульсном сильноточном тлеющем разряде низкого давления с полым катодом

Представлены результаты исследований процессов генерации импульсных пучково-плазменных образований в сильноточном несамостоятельном тлеющем разряде с полым катодом при низком (0.025-0.25 Па) давлении. В объеме полого катода объемом 0.34 м3 в тлеющем разряде получены импульсные токи до 800 А при токе инжектируемых электронов до 100 А, напряжении горения разряда до 400 В и длительности импульсов 1 мс. Сформирована плазма с концентрацией около 1012 см-3 со степенью ионизации до 16 %. Показано, что длина свободного пробега λк между кулоновскими взаимодействиями в диапазоне давлений 0.025-0.05 Па примерно в 3.5 раза меньше, чем длина свободного пробега электрона λ e при взаимодействии с нейтралами при высокой (10-15 %) степени ионизации плазмы. Измеренные плотности электронного тока насыщения на зонд при токе тлеющего разряда ≈ 750 А составили 3.7 А/см2 (0.025 Па), 5 А/см2 (0.05 Па) и 6.7 А/см2 (0.25 Па). Сгенерированные в тлеющем разряде относительно однородные протяженные пучково-плазменные образования перспективны для формирования импульсных интенсивных электронных пучков большого сечения.

Plasma generation with increased ionization degree in pulsed high-current low-pressure hollow cathode glow discharge.pdf Введение Среди различных типов эмиттеров электронов, к которым относятся термоэмиссионные [1] и взрывоэмиссионные катоды [2], наибольшим ресурсом обладают плазменные катоды с сеточной стабилизацией границы эмиссионной плазмы [3]. Разработка устройств генерации электронных пучков большого, более 1000 см2 [4], сечения и интенсивных электронных пучков субмиллисекундной длительности ведется с использованием плазменных источников на основе электродугового разряда [5, 6]. Для токов электронного пучка величиной ≈ 1 кА при плотности электронного тока до 10 А/см2 достигаемая длительность импульса составляла величину, как правило, ниже 1 мс [7-9]. Ограничение длительности импульса было вызвано возникновением пробоя ускоряющего промежутка. Одной из причин возникновения пробоя является высокая неоднородность плазмы вблизи эмиссионного сеточного электрода, формируемой дуговым разрядом [10]. Устранение факторов, способствующих возникновению локальных неоднородностей плазмы вблизи эмиссионной сетки, может повысить стабильность генерации электронного пучка, т.е. позволит увеличить длительность разрядного импульса тока пучка, а также рабочее давление в плазменном эмиттере электронов. Тлеющий разряд низкого давления с полым катодом [11, 12] позволяет создать более однородную плазму вблизи эмиссионной сетки по сравнению с разрядными ячейками на основе дуги. Однако токи в данном типе разряда на 2-3 порядка ниже, чем в дуговом разряде низкого давления. В импульсном режиме горения сильноточного тлеющего разряда низкого давления с полым катодом, поддерживаемого внешней инжекцией электронов, достигаются токи до нескольких сотен ампер [13], а значит, могут быть получены требуемые плотности тока электронной эмиссии. Чтобы оценить возможности использования плазмы несамостоятельного тлеющего разряда для генерации импульсных интенсивных электронных пучков, в данной работе проводилось исследование характеристик импульсного несамостоятельного тлеющего разряда с полым катодом в диапазоне давлений 0.025-0.25 Па при токах до нескольких сотен ампер и токе инжектированных электронов до 100 А, а также параметров плазмы в этих режимах. Описание экспериментальной установки Исследование характеристик сильноточного несамостоятельного тлеющего разряда проводилось на экспериментальном стенде, представленном на рис. 1. Стенки вакуумной камеры высотой 1200 мм, диаметром 600 мм и объемом около 0.34 м3 являлись катодом основного тлеющего разряда. Откачка камеры производилась турбомолекулярным насосом до предельного давления 5•10-3 Па, а рабочее давление варьировалось в диапазоне 0.02-1 Па при напуске аргона особой чистоты. Тлеющий разряд зажигался между полым катодом и кольцевым анодом, введенным через вспомогательный фланец на верхней стенке камеры. Площадь полого катода Sc была равна 2.8•104 см2, а площадь анода Sa составляла около 600 см2 (Sa : Sc ≈ 1 : 50). Рис. 1. Схема экспериментального стенда Питание основного несамостоятельного тлеющего разряда осуществлялось от источника напряжения с параметрами: выходное напряжение - 30-500 В, выходной ток - до 840 А. На выходе источника питания установлена конденсаторная батарея С2 емкостью 5.5 мФ. Система дугогашения, реализованная на транзисторах К2 и К3, разрывала цепь питания тлеющего разряда при возникновении дуги в разрядном промежутке, когда ток достигал 840 А. Для измерения тока тлеющего разряда Id использовался сигнал с датчика Холла, а напряжение горения Ud измерялось между анодом и катодом тлеющего разряда. Для обеспечения стабильного зажигания и горения тлеющего разряда, а также достижения тока величиной до 800 А в тлеющем разряде использовалась инжекция электронов из источника электронов на основе импульсного вспомогательного дугового разряда с холодным полым катодом [14]. Формирование в источнике электронов импульса тока Ia вспомогательного дугового разряда длительностью 1 мс и амплитудой до 200 А осуществлялось коммутацией напряжения c конденсаторной батареи С1 через токоограничивающий резистор R1 на разрядный промежуток посредством замыкания ключа К1. Токоограничивающий резистор R1 обеспечивал стабильное горение дугового разряда в течение всей длительности разрядного импульса. Исследование проводилось по следующей методике. При подаче аргона через газовый ввод устанавливалось требуемое рабочее давление. Затем приложением высоковольтного импульса Utr на поджигающий электрод относительно цилиндрического катода дугового разряда инициировалось катодное пятно на его внутренней поверхности, которое в дальнейшем перемещалось по круговой траектории в максимуме тангенциальной составляющей магнитного поля. В экспериментах импульс тока дугового разряда имел длительность около 1 мс. Вспомогательный импульсный дуговой разряд горел через отверстие в диафрагме на анод - эмиссионный сеточный электрод, который был перекрыт плоской сеткой с геометрической прозрачностью 45 % (размер ячейки сетки - 0.4×0.4 мм). Часть потока электронов, приходящего на сеточный анод, проходила через ее ячейки и затем ускорялась в прикатодном падении потенциала основного тлеющего разряда. В проводимых численных оценках предполагалось, что ток электронов, инжектированных в плазму тлеющего разряда, составлял 45 % от тока вспомогательного дугового разряда. Инжектированные в плазму тлеющего разряда электроны ускорялись до значений энергии eUd и осциллировали в полом катоде до момента ухода на кольцевой анод, который размещался в области геометрической тени по отношению к направлению инжекции электронов в плазму тлеющего разряда. Для оценки возможности генерации повышенных значений концентрации плазмы, определяющих получение характерных для электродуговой плазмы значений плотности электронного тока эмиссии, проводились зондовые измерения параметров плазмы тлеющего разряда. Определение параметров плазмы производилось с использованием одиночного цилиндрического зонда длиной 5 мм и диаметром около 0.35 мм, введенного через боковой фланец камеры на расстоянии около 20 см от оси полого катода тлеющего разряда и на высоте около 50 см от основания вакуумной камеры (середина полого катода). На зонд подавалось синусоидальное напряжение смещения частотой 50 Гц и амплитудой до 140 В асинхронно с разрядными импульсами. Опорным электродом являлся анод тлеющего разряда. Для оценки однородности импульсной плазмы, формируемой в полом катоде тлеющего разряда, измерялось продольное распределение параметров плазмы путем перемещения зонда сверху вниз на расстояние до 100 см от верхнего основания камеры. За нулевое положение зонда принималось положение верхнего основания камеры. Измеренные значения напряжения смещения зонда Uз и тока на зонд Iз поступали на аналогово-цифровой преобразователь (АЦП) системы зондовых измерений и затем в микроконтроллер (МК) для отправки на персональный компьютер. Измерение вольтамперных характеристик зонда производилось в момент времени t = 400 мкс разрядного импульса при количестве измеряемых точек - 200. Обработка зондовых характеристик для определения таких параметров плазмы, как Te, ne и Upl проводилась графически с использованием возможностей пакета Microsoft Excel. Результаты исследований и их обсуждение На рис. 2 представлены характерные осциллограммы импульсов тока вспомогательного дугового разряда Ia, тока основного тлеющего разряда Id, а также напряжения горения разряда Ud для значений рабочего давления 0.25 (а), 0.05 (б) и 0.25 Па (в, г). До момента инициирования вспомогательного дугового разряда между полым катодом и кольцевым анодом тлеющего разряда приложено постоянное напряжение Ud величиной 100-300 В. При срабатывании поджига инициируется вспомогательный дуговой разряд, ток которого нарастает за время около 50 мкс до амплитудного значения. Одновременно с нарастанием тока дугового разряда наблюдается более инерционный процесс нарастания тока тлеющего разряда, обусловленный конечным временем наработки плазмы в полом катоде тлеющего разряда. В течение 100-200 мкс после инициирования напряжение горения тлеющего разряда имеет характерный спад с минимумом и затем возвращается к экспоненциальному спаду. Этот резкий скачок связан с индуктивностью дросселя, специально введенного в выходную цепь источника питания для ограничения бросков тока при возникновении микродуг. Ток тлеющего разряда нарастает до максимума, который, по всей видимости, связан, с переходом разряда в квазистационарный режим, а затем начинается постепенный спад, вызванный разрядом конденсаторной батареи. Плавное снижение напряжения на разрядном промежутке приводит к плавному снижению тока до окончания импульса тока вспомогательного дугового разряда. Деионизация разрядного промежутка происходит за время около 200 мкс при приложенном напряжении Ud. Скорость спада напряжения на батарее варьируется в зависимости от импульсной мощности основного тлеющего разряда. Мгновенная мощность в импульсе составляла величину до 270 кВт. Измерение точек основных характеристик тлеющего разряда производилось при выходе тока тлеющего разряда в максимум. Необходимо отметить, что при увеличении рабочего давления на порядок - с 0.025 до 0.25 Па - при одном и том же значении тока вспомогательного дугового разряда Ia время нарастания тока приблизительно одинаковое и составляет около 400 мкс. При высоких значениях тока инжектируемых электронов и достижении в основном тлеющем разряде тока до нескольких сотен ампер тренировка сопровождается возникновением дуг на поверхности полого катода, при которых происходит отключение источника питания. Момент возникновения дуги зафиксирован на рис. 2, г и характеризуется скачкообразным снижением напряжения на разрядном промежутке до величины нескольких десятков вольт и нарастанием тока до порогового значения (840 А). Максимально допустимое значение тока в тлеющем разряде (800 А) ограничивалось возможностями источника питания. Рис. 2. Осциллограммы тока вспомогательного дугового разряда в источнике электронов (Ia), напряжения горения (Ud) и тока несамостоятельного тлеющего разряда (Id) при различных значениях рабочего давления p(Ar): а - 0.25 Па; б - 0.05 Па; в, г - 0.025 Па. Временное разрешение - 200 мкс/дел. Длительность разрядного импульса - 1 мс Рис. 3. ВАХ несамостоятельного тлеющего разряда при различных значениях рабочего давления p (Ar): а - 0.25 Па; б - 0.05 Па; в - 0.025 Па. Ток вспомогательного дугового разряда Ia: кр. 1 - 50 А; кр. 2 - 100 А; кр. 3 - 150 А; кр. 4 - 200 А Измеренные вольт-амперные характеристики (ВАХ) основного тлеющего разряда для рабочих давлений 0.25, 0.05 и 0.025 Па в рассматриваемой электродной системе приведены на рис. 3. Точки «а», «б» и «в» на характеристиках, полученные при разных давлениях, соответствуют осциллограммам рис. 2, а, б и в. Полученные ВАХ хорошо аппроксимируются параболическими функциями для рабочих давлений 0.025 и 0.05 Па. При рабочем давлении 0.25 Па и токах вспомогательного дугового разряда 150 и 200 А наблюдается линейный рост характеристик, т.е. исчезает влияние фактора, обуславливающего их ускоренный рост при более низких давлениях и более низких значениях тока вспомогательного разряда. Однако при прочих равных условиях при одном и том же напряжении горения величина тока тлеющего разряда выше при более высоком давлении за счет газового усиления. Для определения влияния газового усиления на ток тлеющего разряда были измерены зависимости тока тлеющего разряда от рабочего давления (рис. 4, а). Увеличение рабочего давления с 0.025 до 0.075 Па приводит к росту тока тлеющего разряда в несколько раз за счет газового усиления в атмосфере аргона. Значительное газовое усиление можно объяснить улучшением условий утилизации энергии ускоренных в прикатодном слое электронов до момента их ухода на кольцевой анод. Кроме того, другим вероятным фактором, обуславливающим параболический рост ВАХ при более низких давлениях, является влияние формируемой в полом катоде плазмы на процессы эмиссии электронов из плазмы вспомогательного дугового разряда. Увеличение мощности в разряде приводит к росту концентрации плазмы в тлеющем разряде, увеличению потока ионов в плазму вспомогательного дугового разряда и последующему снижению потенциального барьера для эмитируемых электронов. Отношение тока эмитируемых из дуговой плазмы электронов Iem к току дугового разряда Ia (коэффициент эмиссии) в этом случае может значительно возрастать. Измеренные зависимости тока тлеющего разряда Id от тока вспомогательного дугового разряда Ia, как и ожидалось, имеют линейный характер (рис. 4, б). Рис. 4. Зависимости тока тлеющего разряда: а - от рабочего давления (Ar): кр. 1 - Ia = 70 А, Ud = = 300 В; кр. 2 - Ia = 70 А, Ud = 200 В; кр. 3 - Ia = 50 А, Ud = 300 В; кр. 4 - Ia = 50 А, Ud = 200 В; б - от тока вспомогательного дугового разряда при p (Ar) = 0.025 Па: кр. 1 - Ud = 200 В; кр. 2 - Ud = = 150 В; кр. 3 - Ud = 125 В; кр. 4 - Ud = 100 В Оценки показывают, что средняя длина траектории L инжектируемых и ускоренных в прикатодном падении потенциала электронов, рассчитываемая как 4V/Sa [15], где V - объем полого катода, в котором осциллируют электроны, а Sa - площадь анода, составляет 23 м. Длины свободного пробега электрона λe при давлениях 0.025, 0.05 и 0.25 Па для сечения ионизации аргона 610-20 м2 составляют около 2.8, 1.4 и 0.28 м соответственно. Количество ионизаций, которые может совершить ускоренный электрон до ухода на анод в такой ловушке при условии достаточной энергии Ee, в среднем составит 8 (0.025 Па), 16 (0.05 Па) и 80 (0.25 Па). В действительности за счет пучково-плазменных взаимодействий [16] средний путь инжектируемых в полый катод электронов Λ, на котором их энергия уменьшится до порога ионизации Ei, будет меньше. В условиях проведенного эксперимента имеет место определяющее влияние на L потока электронов, инжектируемых с относительно малой площади катода через эмиссионную сетку, с током, сравнимым по величине с общим током на катод. Даже считая, что величина L в экспериментальной системе близка к максимально возможной, и принимая в качестве эффективной цены ионизации газа значение удвоенного потенциала ионизации аргона (215.7 эВ) [17], получим, что при напряжении горения тлеющего разряда около 300 В электрон уйдет на анод, не полностью растратив энергию при давлении 0.025 Па. Таким образом, энергия первичных электронов также, вероятнее всего, не пол¬ностью утилизируется при более высоких давлениях из-за ухода на анод до момента термолизации. В общем случае увеличение рабочего давления позволяет повысить степень утилизации энергии электронов в плазме за счет снижения Λ при уменьшении длины свободного пробега электронов λe. Однако улучшение условий утилизации произошло и при исследуемых пониженных давлениях: спрямление ВАХ наблюдается при повышенных значениях мощности в разряде (Ia = 200 А). На рис. 5 показан ход характеристик для разных давлений для токов вспомогательного дугового разряда 150 и 200 А. При высоких значениях тока тлеющего разряда зависимости при давлениях 0.025 и 0.05 Па практически совпадают (кривые 4 и 5). При этом в области тока тлеющего разряда около 800 А точки ВАХ для всех трех давлений становятся близки, что может объясняться влиянием повышенной степени ионизации плазмы [13], снижающим среднюю длину свободного пробега электронов за счет реакций кулоновского взаимодействия, сечение взаимодействия σei которого на два порядка выше сечения взаимодействия электронов с нейтралами σea [18], т.е. возникают дополнительные каналы утилизации энергии электронов. Рис. 5. ВАХ несамостоятельного тлеющего разряда при значениях рабочего давления p (Ar): 0.025 Па (кр. 1, 4), 0.05 Па (кр. 2, 5), 0.25 Па (кр. 3, 6) и токах вспомогательного дугового разряда Ia: 150 А (кр. 1, 2, 3), 200 А (кр. 4, 5, 6) Для определения важнейших с точки зрения эмиссионной способности плазмы тлеющего разряда параметров были проведены зондовые измерения при разных давлениях и токах тлеющего разряда, близких к максимальному. В таблице приведены параметры плазмы, измеренные с использованием одиночного зонда. Во всех трех случаях ток дугового разряда был равен 100 А. Результаты зондовых измерений параметров плазмы несамостоятельного тлеющего разряда Условия p = 0.025 Па; Ia = 100 А; Id = 750 А; Ud = 350 В p = 0.05 Па; Ia = 100 А; Id = 780 А; Ud = 325 В p = 0.25 Па; Ia = 100 А; Id = 780 А; Ud = 250 В Параметр Температура электронов, эВ 4 3.3 2.2 Потенциал плазмы, В -14 -8.5 -2.3 Концентрация плазмы, см-3 11012 1.21012 2.31012 Степень ионизации, % 16 10 3.8 При низких, 0.05 и 0.025 Па, давлениях, которые наиболее перспективны для генерации потоков электронов, степень ионизации плазмы составила соответственно 10 и 16 %. Оценим длину свободного пробега электронов при этих давлениях с учетом кулоновских взаимодействий в такой плазме. При рабочих давлениях 0.025 и 0.05 Па концентрация нейтральных частиц газа na составляет 6∙1018 и 1.2∙1019 м-3 соответственно. Кулоновский логарифм Lк для исследуемой плазмы с концентрацией ≈ 1012 cм-3 при условии взаимодействия однократно заряженных частиц и Te ≈ 3-4 эВ составляет около 10. В этом случае, согласно [18], σei ~ 2.910-13 (Te)-2 см2, т.е. в исследуемой плазме при давлениях 0.025 и 0.05 Па σei составляет 0.1810-13 и 0.2610-13 см2 соответственно, что более чем на порядок больше, чем сечение взаимодействия электронов с нейтралами σeа (~ 10-15 cм2). Длины свободного пробега λк между кулоновскими взаимодействиями будут равны 60 и 40 см для давлений 0.025 и 0.05 Па соответственно, что примерно в 3.5 раза меньше, чем λe при взаимодействии с нейтралами. Следовательно, кулоновские взаимодействия при такой степени ионизации оказывают значительное воздействие на траектории движения заряженных частиц, коэффициенты диффузии заряженных частиц, межчастичное взаимодействие, а значит и утилизацию энергии быстрых электронов в плазме. Наиболее интересной с точки зрения эмиссионных свойств плазмы является величина плотности электронного тока эмиссии из формируемой в тлеющем разряде плазмы. Плотности электронного тока насыщения на зонд при токе тлеющего разряда около 750 А составили 3.7 А/см2 (0.025 Па), 5 А/см2 (0.05 Па) и 6.7 А/см2 (0.25 Па), что достаточно для формирования импульсных интенсивных электронных пучков большого, до нескольких десятков квадратных сантиметров, сечения. Создаваемая в тлеющем разряде плазма также интересна для использования в системах генерации радиально-сходящихся, радиально-расходящихся и ленточных пучков большого сечения. Для оценки степени неоднородности распределения параметров плазмы в объеме полого катода были проведены соответствующие зондовые исследования. На рис. 6 представлены продольные распределения параметров плазмы Te, Upl, и ni, полученные в режиме p(Ar) = 0.025 Па, Ia = 100 А, Id = 750 А, Ud = 350 В при движении одиночного зонда на расстоянии около 20 см от центральной оси полого катода. Концентрация плазмы экспоненциально увеличивается по направлению к нижнему основанию полого катода, а потенциал плазмы и температура электронов снижаются, что связано с влиянием плотного потока электронов, инжектируемых из вспомогательного дугового разряда в полый катод протяженной геометрии. Разница значений концентрации плазмы в области нижнего и верхнего оснований составляет около 25 %. Рис. 6. Распределения параметров плазмы Te, Upl и ni в полом катоде тлеющего разряда при p (Ar) = 0.025 Па, Ia = 100 А, Id = 750 А, Ud = = 350 В Заключение В несамостоятельном тлеющем разряде с полым катодом объемом 0.34 м3 при низком давлении (0.025-0.25 Па) получены импульсные токи до 800 А при напряжении горения разряда до 400 В и длительности импульсов 1 мс. Сформирована плазма с концентрацией около 1012 см-3 со степенью ионизации до 16 %. Увеличение рабочего давления с 0.025 до 0.25 Па приводит к газовому усилению тока тлеющего разряда до 3 раз, однако при высоких значениях тока тлеющего разряда вольт-амперные характеристики при давлениях 0.025 и 0.05 Па практически совпадают, что может объясняться влиянием повышенной степени ионизации плазмы. Полученные экспериментальные данные и оценки показывают, что длина свободного пробега λк между кулоновскими взаимодействиями в диапазоне давлений (0.025-0.05 Па) примерно в 3.5 раза меньше, чем λe при взаимодействии с нейтралами, т.е. кулоновские взаимодействия при высокой (10-15 %) степени ионизации плазмы оказывают значительное воздействие на траектории движения заряженных частиц, межчастичное взаимодействие, а значит, способствуют более эффективной утилизации энергии быстрых электронов в плазме тлеющего разряда до их ухода на анод. Измеренные плотности электронного тока насыщения на зонд составили 3.7 А/см2 (0.025 Па), 5 А/см2 (0.05 Па) и 6.7 А/см2 (0.25 Па), что указывает на перспективность использования импульсной плазмы сильноточного тлеющего разряда с полым катодом в устройствах генерации импульсных интенсивных электронных пучков большого сечения, применяемых для возбуждения газовых лазеров, стерилизации, реализации плазмохимических и других процессов, число которых растет по мере совершенствования источников электронов.

Ключевые слова

Авторы

ФИООрганизацияДополнительноE-mail
Яковлев Владислав ВикторовичИнститут сильноточной электроники СО РАНнауч. сотр. ЛППИП ИСЭ СО РАНvlad000@rambler.ru
Денисов Владимир ВикторовичИнститут сильноточной электроники СО РАНк.т.н., зав. ЛППИП ИСЭ СО РАНdenisov@opee.hcei.tsc.ru
Коваль Николай НиколаевичИнститут сильноточной электроники СО РАНд.т.н., гл. науч. сотр. ИСЭ СО РАНkoval@hcei.tsc.ru
Ковальский Сергей СергеевичИнститут сильноточной электроники СО РАНмл. науч. сотр. ИСЭ СО РАНkovalskiy_ss@bptvac.ru
Островерхов Евгений ВладимировичИнститут сильноточной электроники СО РАНаспирант ИСЭ СО РАНevgeniy86evgeniy@mail.ru
Егоров Артем ОлеговичИнститут сильноточной электроники СО РАНмагистрант ИСЭ СО РАНegorov.ao.work@gmail.com
Савчук Михаил ВикторовичИнститут сильноточной электроники СО РАНаспирант ИСЭ СО РАНmixail96@bk.ru
Всего: 7

Ссылки

Goebel D.M. and Watkins R.M. // RSI. - 2000. - V. 71. - No. 2. - P. 388-398.
Mesyats G.A. and Proskurovsky D.I. Pulsed Electrical Discharge in Vacuum. - Berlin: Springer, 1989.
Бугаев С.П., Крейндель Ю.Е., Щанин П.М. Электронные пучки большого сечения. - М.: Энергоатомиздат, 1984. - 112 с.
Щанин П.М., Коваль Н.Н., Толкачёв В.С., Гушенец В.И. // Изв. вузов. Физика. - 2000. - Т. 43. - № 5. - С. 92-96.
Devyatkov V.N. et al. // Laser Part. Beams. - 2003. - V. 21. - P. 243-248.
Korolev Y.D. and Koval N.N. // J. Phys. D: Appl. Phys. - 2018. - V. 51. - P. 323001.
Goebel D.M., Schumacher R.W., and Watkins R.M. // Proc. 9th Int. Conf. on High Power Particle Beams, Beams-92. - Washington DC, 1992. - V. 2. - P. 1093.
Метель А.С., Мельник Ю.А. // ПТЭ. - 2013. - № 3. - С. 76-84.
Vorobyov M.S. et al. // Proc. 25th Int. Symp. on Discharges and Electrical Insulation in Vacuum. Tomsk, Russia, September 2-7, 2012. - 2012. - V. 2. - P. 615-618.
Эмиссионная электроника / под. ред. Ю.С. Протасова. - М.: Изд-во МГТУ им. Н.Э. Баумана, 2009. - 596 с.
Bayless J.R. // RSI. - 1975. - V. 46. - No. 9. - P. 1158-1160.
Burdovitsin V.A., Gordeev A.K., Klimov A.S., et al. // Tech. Phys. - 2012. - V. 57(8). - P. 1101-1105. DOI: 10.1134/s1063784212080075.
Denisov V.V., Akhmadeev Yu.H., Koval N.N., et al. // Phys. Plasmas. - 2019. - V. 26. - P. 123510.
Denisov V.V., Akhmadeev Yu.H., Koval N.N., and Ostroverchov E.V. // High Temp. Mater. Proс. - 2016. - V. 20. - Iss. 4. - P. 309-316.
Метель А.С. // ЖТФ. - 1984. - Т. 54. - Вып. 2. - С. 241-247.
Незлин М.В. Динамика пучков в плазме. - М.: Энергоиздат, 1982. - 264 с.
Ульянов К.Н. // ТВТ. - 1999. - Т. 37. - № 3. - С. 363-373.
Биберман Л.М., Воробьев В.С., Якубов И.Т. Кинетика неравновесной низкотемпературной плазмы. - М.: Наука, 1982. - 375 с.
 Генерация плазмы с повышенной степенью ионизации в импульсном сильноточном тлеющем разряде низкого давления с полым катодом | Изв. вузов. Физика. 2020. № 10. DOI: 10.17223/00213411/63/10/109

Генерация плазмы с повышенной степенью ионизации в импульсном сильноточном тлеющем разряде низкого давления с полым катодом | Изв. вузов. Физика. 2020. № 10. DOI: 10.17223/00213411/63/10/109