Адмиттанс МДП-структур на основе пентацена с двухслойным диэлектриком SiO2-Al2O3
В широком диапазоне частот, температур и смещений проведены экспериментальные исследования адмиттанса МДП-структур на основе пентацена с двухслойным диэлектриком SiO2-Al2O3 и различными материалами для обратного контакта (Au, Al, In, Ag). Концентрация дырок в органической пленке пентацена, найденная из вольт-фарадных характеристик, принимала достаточно большие значения (в диапазоне (4-40)×1017 см-3). Величина гистерезиса электрофизических характеристик оказалась минимальной для структур с обратными контактами из Ag и In. Для структур с обратными контактами из Au и Al при 300 К обнаружен значительный гистерезис. Для структуры с обратным контактом из Al при прямой развертке напряжения в режиме слабого обогащения наблюдался максимум емкости, который может быть связан с перезарядкой уровня поверхностных состояний на границе раздела между неорганическим диэлектриком и пентаценом. Предложена эквивалентная схема МДП-структуры на основе пентацена, позволяющая рассчитать частотные зависимости импеданса в различных условиях. Найдены значения элементов эквивалентной схемы при различных смещениях и температурах. Для структур с обратными контактами из Au и Ag обнаружены максимумы на температурной зависимости проводимости, связанные с перезарядкой объемных ловушек в органической пленке пентацена.
Admittance of mis-structures based on pentacene with two-layer dielectric SiO2-Al2O3.pdf Введение Возникший в последние годы интерес к исследованиям свойств органо-неорганических систем обусловлен перспективами создания новых типов приборов с расширенными функциональными возможностями, причем в таких приборах могут сочетаться достоинства органических пленок и традиционных неорганических материалов [1-3]. Одним из простых и информативных способов исследования свойств органо-неорганических систем является изучение электрофизических свойств, например, путем измерения адмиттанса или импеданса в различных условиях [4-6]. Следует отметить, что традиционные методики изучения электрофизических свойств систем металл - диэлектрик - полупроводник (МДП) [7] были первоначально разработаны для исследования систем на основе кремния с термически нанесенным диоксидом кремния. МДП-структуры на основе пленок органических полупроводников имеют особенности, требующие модификации традиционных методик. В частности, очень малая скорость генерации неосновных носителей заряда [8, 9] приводит к невозможности реализации режима инверсии в таких структурах, важную роль при этом играет инжекция носителей заряда из обратного контакта [10, 11]. Измерение адмиттанса (или импеданса) МДП-структур с органическими полупроводниковыми пленками при различных частотах и напряжениях предоставляет возможности для изучения свойства органической пленки, а также границы раздела неорганический диэлектрик - органический полупроводник [12-14]. Дополнительную информацию можно получить при измерениях электрофизических свойств в широком диапазоне температур [15-17]. Например, в работах [18, 19] измерения в широком диапазоне температур (9-300 К) адмиттанса структур на основе пентацена с диэлектрическими слоями SiO2 и SiO2-Ga2O3 позволили изучить свойства объемных ловушек в органической пленке. В данной работе приведены результаты исследования в широком диапазоне условий адмиттанса МДП-структур на основе пентацена с двухслойным диэлектриком SiO2-Al2O3 и обратными контактами, сформированными из различных металлов (Au, Al, In, Ag). Выбор в качестве полупроводника пентацена определяется тем, что этот материал относительно хорошо изучен из-за возможностей его использования в новых типах приборов (например, в тонкопленочных транзисторах (OTFT), солнечных элементах, устройствах памяти [20, 21]). В создаваемых OTFT обычно используется хорошо изученный диэлектрик SiO2 [22], но представляет интерес изучение свойств границы раздела с другими диэлектрическими покрытиями [20, 21]. Применение диэлектриков с большими значениями диэлектрической проницаемости перспективно для снижения управляющих напряжений транзистора. Важной характеристикой органо-неорганической системы является плотность медленных состояний на границе раздела, поскольку перезарядка таких состояний может приводить к нестабильности работы приборов из-за гистерезиса электрофизических характеристик. Цель данной работы - экспериментальное исследование процессов в МДП-структурах на основе пентацена с двухслойным диэлектриком SiO2/Al2O3 и обратными контактами, сформированными из различных металлов, посредством измерений адмиттанса в широком диапазоне условий. Образцы и методики измерений Для исследований создавались МДП-структуры на основе органического полупроводника пентацена - с двухслойным диэлектриком SiO2-Al2O3. В качестве подложек использовались слои высоколегированного кремния электронного типа проводимости с нанесенными сверху слоями SiO2 толщиной 220-260 нм (производства Fraunhofer). На поверхность SiO2 методом плазменного атомно-слоевого осаждения наносился слой Al2O3 [23, 24] толщиной около 90 нм. Перед формированием слоя пентацена для очистки поверхности структуры промывались в изопропиловом спирте с последующей обработкой в кислородной плазме. Органические пленки пентацена толщиной около 50 нм наносились методом термовакуумного напыления. Рис. 1. Схематическое изображение МДП-структуры на основе пентацена с двухслойным диэлектриком SiO2/Al2O3 с обратным контактом из Au (образец № 1) Обратные контакты из различных металлов (Au, Al, In, Ag - образцы № 1-4 соответственно) формировались при помощи термического напыления в вакууме через маску с отверстиями. Площадь электродов определялась для каждой структуры при помощи специальной микроскопической методики. Для исследованных структур № 1-4 площади обратных контактов (S) составили 1.12, 1.58, 1.52 и 1.50 мм2 соответственно. Омический контакт к подложке из высокопроводящего n-Si создавался вплавлением In методом электрического пробоя [18, 25]. На рис. 1 показано схематическое расположение слоев в МДП-структуре на основе пентацена с обратным контактом из Au (образец № 1). Измерения проводились при помощи автоматизированной установки для спектроскопии адмиттанса наногетероструктур, в состав которой входили измеритель иммитанса Agilent E4980A и неоптический криостат Janis. Установка позволяла измерять зависимости адмиттанса от температуры (8-300 К), частоты (1-2000 кГц), напряжения смещения (от -40 до 40 В). За прямое направление развертки напряжения (FVS) принимается изменение напряжения смещения от отрицательных значений к положительным, а за обратное (RVS) - от положительных к отрицательным. Для анализа экспериментальных зависимостей адмиттанса использовался метод эквивалентных схем [26-28]. При экспериментальных исследованиях использовалась параллельная схема замещения, т.е. находились параллельно соединенные емкость (C) и проводимость (G) МДП-структуры. Для характеристики процессов в МДП-структурах часто применяют нормированную на циклическую частоту проводимость МДП-структуры . Если из полного импеданса МДП-структуры вычесть емкостное сопротивление диэлектрического слоя, то можно найти параллельные емкость (Cp) и проводимость (Gp, ), которые характеризуют свойства пленки пентацена с учетом сопротивления обратного контакта. Экспериментальные результаты и их обсуждение На рис. 2 приведены вольт-фарадные характеристики (ВФХ) МДП-структур № 1 и 2 с обратными контактами из Au и Al соответственно, измеренные при температуре 300 К на частоте 2 кГц при прямом и обратном направлении развертки напряжения. Измеренные ВФХ характерны для МДП-структур с полупроводником дырочного типа проводимости. Из рис. 2 видно, что для образцов № 1 и 2 при температуре 300 К наблюдается значительный гистерезис ВФХ. На рис. 3 показаны ВФХ МДП-структур № 3 и 4 с обратными контактами из In и Ag соответственно, измеренные при температуре 300 К на частоте 2 кГц при прямом и обратном направлении развертки напряжения. Можно отметить, что для образцов № 3 и 4 при положительных смещениях наблюдается относительно небольшой гистерезис ВФХ. Рис. 2. ВФХ МДП-структур № 1 (Pen-Au) (кр. 1, 2) и № 2 (Pen-Al) (кр. 3, 4) с диэлектриком SiO2-Al2O3, измеренные при температуре 300 К на частоте 2 кГц при прямой (кр. 1, 3) и обратной (кр. 2, 4) развертке напряжения Рис. 3. ВФХ МДП-структур № 3 (Pen-In) (кр. 1, 2) и № 4 (Pen-Ag) (кр. 3, 4) с диэлектриком SiO2- Al2O3, измеренные при температуре 300 К на частоте 2 кГц при прямой (кр. 1, 3) и обратной (кр. 2, 4) развертке напряжения Из рис. 2 видно, что для образца № 1 с обратным контактом из Au при прямой развертке напряжения наблюдается максимум емкости в режиме обогащения. Максимум емкости становится менее выраженным при увеличении частоты (рис. 4) и при охлаждении (рис. 5). Можно предположить, что возникновение этого максимума связано с перезарядкой уровня на границе между пентаценом и двухслойным диэлектриком SiO2-Al2O3. Рис. 4. ВФХ МДП-структуры № 2 (Pen-Al) с диэлектриком SiO2-Al2O3, измеренные при прямой развертке напряжения при температуре 300 К на различных частотах, кГц: кр. 1 - 200, кр. 2 - 50, кр. 3 - 10, кр. 4 - 2 Рис. 5. ВФХ МДП-структуры № 2 (Pen-Al) с диэлектриком SiO2-Al2O3, измеренные при прямой развертке напряжения на частоте 2 кГц при различных температурах, К: кр. 1 - 150, кр. 2 - 200, кр. 3 - 250, кр. 4 - 300 Концентрацию дырок в пленке пентацена можно определить по наклону зависимости C-2(V) в режиме обеднения, где V - напряжение смещения (анализ Мотта - Шоттки) [7]. В приближении обеднения верно соотношение , где NA - концентрация ионизованной акцепторной примеси; q - заряд электрона; s - относительная диэлектрическая проницаемость полупроводника; 0 - диэлектрическая проницаемость вакуума; S - площадь полевого электрода МДП-структуры. Зная концентрацию дырок в пленке пентацена, можно определить напряжение плоских зон при прямом и обратном направлении развертки напряжения, а также величину гистерезиса при напряжении плоских зон. Найденные при температуре 300 К параметры различных образцов приведены в табл. 1. Рассчитанные значения концентрации дырок достаточно велики. Это можно объяснить в рамках модели непреднамеренного легирования [29-31]. Известны предположения, что причиной высоких значений определяемой концентрации дырок в тонких органических пленках может быть инжекция носителей заряда из обратного контакта [10, 11]. Но в этом случае сложно объяснить отсутствие зависимости определяемой концентрации дырок от температуры и частоты [18], поскольку высота барьера на границе пентацена и обратного контакта должна зависеть от температуры [11]. Зная концентрацию дырок в органической пленке, можно найти емкость плоских зон (Cfb) при помощи формул [7]: , , где p - концентрация дырок в пентацене; k - постоянная Больцмана; T - температура; LD - длина Дебая для дырок. Значения напряжения плоских зон (Vfb) при прямой и обратной развертке напряжения, а также величина гистерезиса (V) при емкости плоских зон приведены в табл. 1. Если гистерезис связан с перезарядкой медленных состояний на границе раздела между пентаценом и неорганическим диэлектриком, то плотность медленных состояний (Nss) можно найти при помощи формулы: , где Сd - емкость диэлектрика. Таблица 1 Параметры органо-неорганических систем различных типов, найденные из ВФХ при температуре 300 К № образца Концентрация дырок, см-3 Vfb при FVS, В Vfb при RVS, В V при Сfb, В Nss, см-2 1 3.731017 -27 -11.5 15.5 4.551012 2 1.391018 -26 -5.5 20.5 4.041012 3 3.821018 -12 -4 8 2.231012 4 2.881018 -22.5 -6 16.5 3.971012 На рис. 6 и 7 символами показаны экспериментальные зависимости действительной и мнимой частей импеданса для образца № 1 с обратным контактом из Au, которые были измерены при температуре 200 К и смещении -20 В. На вставке рис. 6 показано, что исследуемые МДП-структуры на основе пентацена можно представить в виде параллельно или последовательно соединенных емкости и сопротивления (Cp-Rp или Cs-Rs соответственно). Рис. 6. Экспериментальные зависимости действительной (кр. 1) и мнимой частей импеданса (кр. 2) образца № 1 (Pen-Au) с диэлектриком SiO2-Al2O3 от частоты, измеренные при напряжениях -20 В и температуре 200 К (символы), а также результаты моделирования методом эквивалентных схем (линии) Рис. 7. Экспериментальные зависимости действительной (кр. 1) и мнимой частей импеданса (кр. 2) образца № 1 (Pen-Au) с диэлектриком SiO2-Al2O3 от частоты, измеренные при напряжениях -30 В и температуре 300 К (символы), а также результаты моделирования методом эквивалентных схем (линии) Импеданс Z такой Cs-Rs-цепочки можно записать в следующем виде: , где Re Z - действительная часть импеданса, а Im Z - мнимая часть импеданса. Линиями на рис. 6 и 7 показаны результаты расчета частотных зависимостей импеданса с использованием эквивалентной схемы, приведенной на вставке рис. 7. В этой схеме использованы следующие элементы: Cd и Rd - емкость и сопротивление, которые характеризуют диэлектрический слой и область пространственного заряда в пентацене. Сопротивление R1 и емкость C1 отностся к квазинейтральному объему органической пленки пентацена. Сопротивление Rs описывает свойства обратного контакта к органической пленке пентацена (рис. 1). В табл. 2 приведены значения элементов эквивалентной схемы, определенные для различных образцов при температуре 300 К и напряжении смещения -20 В. Из табл. 2 видно, что наименьшему значению емкости C1 соответствует наибольшее значение сопротивления органической пленки R1. Минимальные значения сопротивления Rs относятся к обратным контактам из Ag и In, а максимальное значение этого сопротивления наблюдалось для обратного контакта из золота. Таблица 2 Параметры эквивалентной схемы, полученные путем моделирования частотных зависимостей импеданса при напряжении -20 В и температуре 300 К № образца Сd, пФ С1, пФ R1, Ом Rs, Ом 1 527 739 124565 875 2 498 2923 22630 442 3 677 2320 105412 164 4 577 34568 2484 89 На рис. 8 показаны зависимости значений элементов эквивалентной схемы для образца № 1 от напряжения смещения при температуре 300 К. Видно, что при снижении обратного смещения емкость Cd уменьшается, что связано с увеличением роли области пространственного заряда. Емкость C1 при понижении величины обратного смещения возрастает (а сопротивление R1 падает), что определяется изменением толщины квазинейтрального объема органической пленки пентацена. На рис. 9 приведены зависимости значений элементов эквивалентной схемы от температуры для образца № 1, измеренные при смещении -15 В. Из рисунка видно, что емкость Cd при охлаждении незначительно уменьшается, а емкость C1 - возрастает, что может быть связано с уменьшением толщины квазинейтрального объема органической пленки (при этом сопротивле¬ние R1 повышается). Рис. 8. Зависимость значений емкости Cd (кр. 1), C1 (кр. 2), а также R1 (кр. 3) образца № 1 (Pen-Au) с диэлектриком SiO2-Al2O3 от напряжения смещения, найденные при помощи метода эквивалентных схем при температуре 300 К Рис. 9. Зависимость значений емкости диэлектрического слоя (кр. 1), емкости органической пленки пентацена (кр. 2), а также сопротивления органической пленки пентацена (кр. 3) образца № 1 (Pen-Au) с диэлектриком SiO2-Al2O3 от температуры, найденные при помощи метода эквивалентных схем при смещении -15 В Можно отметить, что измерения в различных условиях адмиттанса (или импеданса) органо-неорганических систем могут использоваться для характеристики поверхностных состояний и объемных ловушек. На рис. 10 показаны фрагменты ВФХ и зависимости приведенной проводимости от напряжения, измеренные для образца № 1 при температуре 300 К и частоте 15 кГц. Максимум проводимости, соответствующий диапазону наиболее резкого изменения емкости, связан с уровнем поверхностных состояний на границе между пентаценом и двухслойным неорганическим диэлектриком SiO2-Al2O3. Плотность состояний для этого уровня равна около 1.51011 см-2, а время перезарядки - около 3.2 мкс. На рис. 11 приведены температурные зависимости проводимости для образцов № 1 и 4, измеренные на частоте 50 кГц при смещениях -20 и -30 В. Аналогичные максимумы наблюдались для МДП-структур на основе пентацена с диэлектриками SiO2 и SiO2-Ga2O3 [18]. Наблюдаемые максимумы связаны с ловушками в объеме органической пленки пентацена, поскольку при уменьшении толщины квазинейтрального объема амплитуды максимумов уменьшаются. Из графиков Аррениуса найдены значения энергии активации, которые для образцов № 1 и 4 составили (103.82.4) и (121.34.1) мэВ соответственно. Время перезарядки объемного уровня в образце № 1 при температуре 230 К составляло около 100 мкс, а в образце № 4 - около 40 мкс. Концентрация объемных уровней ловушек в пентацене для образца № 1 равнялось 2.51018 см-3, а для образца № 4 - 5.21018 см-3. Рис. 10. Фрагменты ВФХ (кр. 1) и зависимости приведенной проводимости от напряжения (кр. 2) для образца № 1 (Pen-Au) с диэлектриком SiO2- Al2O3, измеренные на частоте 15 кГц при температуре 300 К Рис. 11. Температурные зависимости приведенной проводимости для образца № 1 (Pen-Au, кр. 1 и 2) и образца № 4 (Pen-Ag, кр. 3 и 4), измеренные на частоте 50 кГц при различных напряжениях смещения, В: -30 (кр. 1 и 3), -20 (кр. 2 и 4) Выводы Таким образом, в широком диапазоне условий экспериментально исследован адмиттанс МДП-структур на основе органической пленки пентацена с двухслойными диэлектрическими слоями SiO2-Al2O3. В качестве обратного контакта МДП-структуры использовались различные металлы (Au, Al, In, Ag). Измерения вольт-фарадных характеристик показали, что наибольший гистерезис наблюдается для структур с обратным контактом из золота, а наименьший - из индия. Для МДП-структуры с обратным контактом из Au при прямой развертке напряжения в режиме обогащения обнаружен максимум емкости, который может быть связан с перезарядкой уровня на границе между пентаценом и Al2O3. По наклону вольт-фарадных характеристик в режиме обеднения найдены величины концентраций дырок в пентацене, которые принимали значения в диапазоне от 3.71017 до 3.81018 см-3, что можно объяснить в рамках модели непреднамеренного легирования пентацена. Предложена эквивалентная схема, позволяющая достичь хорошего совпадения расчетных частотных зависимостей действительной и мнимой частей импеданса и экспериментальных данных. Определены величины элементов эквивалентной схемы для различных типов образцов. Найдены зависимости значений элементов эквивалентной схемы от смещения и от температуры. При температуре 300 К уменьшение отрицательного смещения приводит к падению толщины квазинейтрального объема пленки пентацена, что проявляется в увеличении емкости, характеризующей квазинейтральный объем (а также в снижении значений соответствующего сопротивления). Показано, что измерения адмиттанса (или импеданса) МДП-структур на основе пентацена позволяют получить информацию о свойствах поверхностных уровней на границе между пентаценом и неорганическим диэлектриком, а также о свойствах объемных ловушек в пентацене.
Ключевые слова
органический полупроводник,
пентацен,
МДП-структура,
SiO2,
Al2O3,
адмиттанс,
импеданс,
эквивалентные схемы,
гистерезис,
объемные ловушкиАвторы
Войцеховский Александр Васильевич | Национальный исследовательский Томский государственный университет | д.ф.-м.н., профессор, зав. кафедрой НИ ТГУ | vav43@mail.tsu.ru |
Несмелов Сергей Николаевич | Национальный исследовательский Томский государственный университет | к.ф.-м.н., ст. науч. cотр. НИ ТГУ | nesm69@mail.ru |
Дзядух Станислав Михайлович | Национальный исследовательский Томский государственный университет | к.ф.-м.н., ст. науч. cотр. НИ ТГУ | bonespirit@mail2000.ru |
Копылова Татьяна Николаевна | Национальный исследовательский Томский государственный университет | д.ф.-м.н., профессор, зав. лабораторией НИ ТГУ | kopylova@phys.tsu.ru |
Дегтяренко Константин Михайлович | Национальный исследовательский Томский государственный университет | к.ф.-м.н., ст. науч. cотр. НИ ТГУ | norma1954@yandex.ru |
Всего: 5
Ссылки
Sun S.S. and Dalton L.R. Introduction to Organic Electronic and Optoelectronic Materials and Devices. - Boca Raton: Taylor & Francis, CRC Press, 2016. - 963 p.
Muccini M. // Nat. Mater. - 2006. - V. 5. - No. 8. - P. 605-613.
Forrest S.R. // Nature. - V. 428. - No. 6986. - P. 911-918.
Stallinga P. Electrical Characterization of Organic Electronic Materials and Devices. - Chichester et al.: John Wiley & Sons, 2009. - 316 p.
Duan H.S., Zhou H., Chen Q., et al. // Phys. Chem. Chem. Phys. - 2015. - V. 17. - No. 1. - P. 112- 116.
Sharma M. and Tripathi S.K. // Mater. Sci. Semicond. Proc. - 2016. - V. 41. - P. 155-161.
Nicollian E.H. and Brews J.R. MOS (Metal Oxide Semiconductor) Physics and Technology. - New York et al.: Wiley, 1982. - 906 p.
Lindner T. and Paasch G. // J. Appl. Phys. - 2007. - V. 102. - P. 054514h.
Lüssem B., Tietze M.L., Kleemann H., et al. // Nat. Commun. - 2013. - V. 4. - P. 2775.
Nigam A., Premaratne M., and Nair P.R. // Org. Electron. - 2013. - V. 14. - P. 2902-2907.
Nigam A., Nair P.R., Premaratne M., et al. // IEEE Electron Dev. Lett. - 2014. - V. 35. - No. 5. - P. 581-583.
Torres I. and Taylor D.M. // J. Appl. Phys. - 2005. - V. 98. - No. 7. - P. 073710.
Liguori R. and Rubino A. // Mater. Today: Proc. - 2021. - V. 61. - P. 2033-2037.
Estrada M., Ulloa F., Ávila M., et al. // IEEE Trans. Electron Dev. - 2013. - V. 60. - No. 6. - P. 2057-2063.
Turut A., Yıldız D.E., Karabulut A., et al. // J. Mater. Sci.: Mater. Electron. - 2020. - V. 31. - No. 10. - P. 7839-7849.
Gumus I. and Aydogan S. // Semicond. Sci. Technol. - 2020. - V. 35. - No. 10. - P. 105012.
Moraki K., Bengi S., Zeyrek S., et al. // J. Mater. Sci.: Mater. Electron. - 2017. - V. 28. - No. 5. - P. 3987-3996.
Voitsekhovskii A.V., Nesmelov S.N., Novikov V.A., et al. // Thin Solid Films. - 2020. - V. 692. - P. 137622.
Новиков В.А., Войцеховский А.В., Несмелов С.Н. и др. // Изв. вузов. Физика. - 2019. - Т. 62. - № 1. - P. 79-87.
Ma Y.X., Han C.Y., Tang W.M., et al. // Appl. Phys. Lett. - 2017. - V. 111. - P. 023501.
Pazos-Outón L.M., Lee J.M., Futscher M.H., et al. // ACS Energy Lett. - 2017. - V. 2. - P. 476-480.
Lin Y.J. and Hung C.C. // Microelectron. Rel. - 2018. - V. 81. - P. 90-94.
Zakirov E.R., Kesler V.G., Sidorov G.Y., et al. // Semicond. Sci. Technol. - 2019. - V. 34. - No. 6. - P. 065007.
Zhang P., Ye Z. H., Sun C.H., et al. // J. Electron. Mater. - 2016. - V. 45. - No. 9. - P. 4716-4720.
Flores J.M. // Rev. Sci. Instrum. - 1964. - V. 35. - P. 112-113.
Estrada M., Ulloa F., Ávila M., et al. // IEEE Trans. Electron Dev. - 2013. - V. 60. - No. 6. - P. 2057-2063.
Hirwa H., Pittner S., and Wagner V. // Org. Electron. - 2015. - V. 24. - P. 303-314.
Войцеховский А.В., Несмелов С.Н., Дзядух С.М. // Изв. вузов. Физика. - 2018. - Т. 61. - № 11. - С. 162-169.
Sleiman A., Rosamond M.C., Alba Martin M., et al. // Appl. Phys. Lett. - 2012. - V. 100. - P. 14.
Benor A., Hoppe A., Wagner V., et al. // Org. Electron. - 2007. - V. 8. - P. 749-758.
Euvrard J., Revaux A., Cantarano A., et al. // Org. Electron. - 2018. - V. 54. - P. 64-71.